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五十嵐 慎一; 武藤 俊介*; 田辺 哲朗*; 相原 純; 北條 喜一
Surface & Coatings Technology, 158-159, p.421 - 425, 2002/09
低角度入射電子顕微鏡法を用いて、シリコンブリスタリングのその場観察を行った。重水素照射により形成されるブリスターの大きさ,密度は、電子線照射領域内では領域外より明らかに小さいことがわかった。これは高エネルギー電子線による電子励起により、シリコン不飽和結合の重水素による終端化が抑制されたためである。また、フラックスが高いと、ブリスターが形成されるより前に、フレーキングが起きることも明らかにした。さらに、重水素照射では、注入重水素の最大飛程よりさらに浅いところで、重水素終端された欠陥が形成され、そこで劈開が起こり、ブリスターとなることを明らかにした。
西堂 雅博; 山田 禮司; 中村 和幸
Journal of Nuclear Materials, 111-112, p.848 - 851, 1982/00
被引用回数：4 パーセンタイル：47.6(Materials Science, Multidisciplinary)Mo基板上にコーティングしたCVD-TiC,CVD-TiN,RIP-TiC,RiP-SiCおよびDVD-Cの各種コーティング材料の照射耐性を調べた。照射に用いたイオン種は200keVのH
イオンとHeイオンであり、照射に用いたイオン種は室温から500
Cの範囲でおこなった。照射中の水素およびヘリウムの再放出量を、質量分析計により、また、照射後の試料表面は、走査型電子顕微鏡により、それぞれ測定、観察を行なった。照射による表面侵食の程度および型態は、コーティングの種類および製法、表面状態、試料温度、ならびに照射するイオン種に強く依存することが明らかになった。また、ガス再放出挙動と表面侵食との間に強い相関関係のあることが明らかになった。
鎌田 耕治
日本物理学会誌, 35(2), p.133 - 137, 1980/00
イオン照射による固体表面でのブリスタリングについて、(1)ブリスタリング,フレイキングの概念の説明、(2)最近の重要な実験結果を総括的に紹介、(3)ブリスタリングに至る迄の二種類のミクロスコピックなモデル(percolation model,fracture model)、(4)我々が行なった固体表面層内の応力場の計算、(5)それに基づくブリスタリングのモデルと実験との対応、(6)核融合装置第一壁に関する今後の問題、等々最近の研究結果を紹介した。
西堂 雅博; 曽根 和穂; 山田 礼司; 大塚 英男
JAERI-M 7997, 17 Pages, 1978/11
昭和53年5月に設置した同時観察装置(走査型電子顕微鏡を真空壁の表面現象研究用加速器のビームラインに接続した装置)を用いて、100keVヘリウムイオン衝撃した多結晶モリブデンの同時連続観察をおこなった。あらかじめヘリウムの打ち込まれた試料(照射率4.4
10
He/cm
)では、熱処理後の再照射によって表面侵食の形態が、表面の脹れ(Blistering)から大面積剥離(Exfoliation)へと顕著に移行することが判明した。剥離現象はブリスターが時々刻々成長するのとは対照的に、瞬時に起きることが同時連続観察の結果明らかになった。実験結果から、プラズマ不純物の原因となる大面積剥離出現の過程について考察した。
ion bombardment on Mo single crystals鎌田 耕治; 楢本 洋; 数又 幸生
Journal of Nuclear Materials, 71(2), p.249 - 255, 1978/02
被引用回数：8300keVArイオンをMo単結晶表面に照射すると、100日程度の室温焼鈍により始めてblisterが現われる事を見出した。この事はblisterの形成に打ち込みイオンの集合が不可欠なことを示している。ArイオンはHeイオン等に比べるとsputtering yieldが100倍以上に大きい。この事を考慮して結晶中での打ち込みイオンの分布を計算し、blisteringのcritical dose(3.410ions/cm)およびcritical concentration(0.33)を得た。これらの値はHe等軽イオン照射の結果と著しく異なり、重イオン照射損傷の特色を示している。結晶表面の粗化(roughening)も著しい焼鈍効果を持ち、イオン打ち込みによる結晶表面でのsputtering yieldの変化を暗示している。
西堂 雅博; 曽根 和穂; 山田 礼司; 大塚 英男; 村上 義夫
JAERI-M 7182, 16 Pages, 1977/07
電解研磨した表面および粗した表面を持つ多結晶モリブデンに、100KeVのヘリウムおよび200KeVのHイオンを常温で衝撃した。1.010
particles/cmのヘリウムを衝撃すると、電解研磨したモリブデン表面では、ブリスターを生じ、ブリスターの表面は剥離し、亀裂を生じる。一方、#1200、#400および#100のエメリー紙で粗したモリブデン表面では、ブリスター生成は減少するか、抑止されることが判明した。ブリスター生成におよぼす表面粗さの効果について、入射粒子の入射方向の飛程と関連づけてし議論した。
鎌田 耕治
日本原子力学会誌, 17(10), p.517 - 526, 1975/10
核融合炉真空壁の損耗で問題になるSputteringとBlisteringについて、夫々の損耗率を比較し、さらにBlisteringに関する今迄の実験データーの整理を行なう。これらの実験データーからBlisteringの物理的機構を紹介し、現在それについてはErentsらとKamiuskyらによるガスの内圧による表面破壊の考え方と、Behrischらによる打ち込みガスイオンのために結晶内に形成される応力場によるとの考え方がある事を指摘した。同時に今迄の実験データーの不備をも合わせて指摘した。また核融合炉の設計条件の選択に、Blisteringによる損耗の温度依存性が問題になることを指摘した。
